鹤壁卡鲁塞尔氧化沟

氧化沟的技术特点：

氧化沟利用连续环式反应池（Continuous Loop Reactor,简称CLR）作生物反应池，混合液在该反应池中一条闭合曝气渠道进行连续循环，氧化沟通常在延时曝气条件下使用。氧化沟使用一种带方向控制的曝气和搅动装置，向反应池中的物质传递水平速度，从而使被搅动的液体在闭合式渠道中循环。氧化沟一般由沟体、曝气设备、进出水装置、导流和混合设备组成，沟体的平面形状一般呈环形，也可以是长方形、L形、圆形或其他形状，沟端面形状多为矩形和梯形。 氧化沟**早是以序批方式处理污水的技术。鹤壁卡鲁塞尔氧化沟

单级卡鲁塞尔氧化沟脱氮除磷工艺

单级卡鲁塞尔氧化沟有两种形式：一是有缺氧段的卡鲁塞尔氧化沟，可在单一池内实现部分反硝化作用，使用于有部分反硝化要求，但要求不高的场合。另一种是卡鲁塞尔A/C工艺，即在氧化沟上游加设厌氧池，可提高活性污泥的沉降性能，有效控制活性污泥膨胀，出水磷的含量通常在2.0mg/l以下。以上两种工艺一般用于现有氧化沟的改造，与标准的卡鲁塞尔氧化沟工艺相比变动不大，相当于传统活性污泥工艺的A/O和A2/O工艺。

宁夏双沟式氧化沟实验装置使用立式曝气器的氧化沟，后来称为Carrousel氧化沟，沟深可达4.5m。

双沟式氧化沟(自动控制)

发布企业：郑州今科教学仪器有限公司

经营模式：生产加工

商品详情JK-251型

双沟式氧化沟(自动控制)

套

主要参数及配置：郑州今科教学仪器设备有限公司

处理水量：2～6L/h、装置外形尺寸：1200mm×600mm×1200mm 电源 220V 功率300W、

配置：配水箱1只、双沟式氧化沟池体1套、叶轮曝气装置2套、调速电机装置1套、水泵1台、液体流量计1只、可编程自动控制1套、电控箱1只、漏电保护开关、按钮开关、连接管道和球阀、带移动轮子不锈钢台架等组成。

DE型、T型氧化沟脱氮工艺

DE型氧化沟为双沟系统，T型氧化沟为三沟系统，其运行方式比较相似，都是通过配水井对水流流向的切换，堰门的起闭以及曝气转刷的调速，在沟中创造交替的硝化，反硝化条件，以达到脱氮的目的。其不同之处在于DE型氧化沟系统是二沉池与氧化沟分建，有**的污泥回流系统；而T型氧化沟的两侧沟轮流作为沉淀池。

VR型氧化沟脱氮工艺VR氧化沟沟型宛如通常的环形跑道，**有一小岛的直壁结构，氧化沟分为两个容积相当的部分，其水平形式如反向的英文字母C，污水处理通过二道拍门和二道出流堰交替起闭进行连续和恒水位运行。 一般氧化沟法的主要设计参数： 活性污泥浓度：2500－4500mg/l；

氧化沟的缺点

3、污泥上浮问题当废水中含油量过大，整个系统泥质变轻，在操作过程中不能很好控制其在二沉池的停留时间，易造成缺氧，产生腐化污泥上浮；当曝气时间过长，在池中发生高度硝化作用，使硝酸盐浓度高，在二沉池易发生反硝化作用，产生氮气，使污泥上浮；另外，废水中含油量过大，污泥可能挟油上浮。

发生污泥上浮后应暂停进水，打碎或清去污泥，判明原因，调整操作。污泥沉降性差，可投加混凝剂或惰性物质，改善沉淀性；如进水负荷大应减小进水量或加大回流量；如污泥颗粒细小可降低曝气机转速；如发现反硝化，应减小曝气量，增大回流或排泥量；如发现污泥腐化，应加大曝气量，清1去积泥，并设法改善池内水力条件。 氧化沟工艺以其经济简便的突出优势已成为中小型城市污水厂的推荐工艺。管城回族区双沟式氧化沟实验设备

一体化氧化沟4）交替曝气式氧化沟。鹤壁卡鲁塞尔氧化沟

氧化沟工艺自诞生以来，其发展过程可分为四个阶段：

首代氧化沟

Pasveer氧化沟当时用来处理村镇的污水，服务人口只有340人。这是一种间歇流的处理厂，它把常规处理系统的四个主要内容合并在一个沟中完成，白天进水曝气，夜间用作沉淀池，BOD5的去除率达到97%左右。采用卧式表面曝气机曝气及推流，每隔一段时间，Pasveer氧化沟的曝气机就需停下来，使沟内的污泥沉淀，排出处理后的出水。首代氧化沟沟深1～2.5m，为了达到连续运行，Pasveer氧化沟发展的多种形式，设置了二沉池。这一阶段的氧化沟主要是延时曝气系统。 鹤壁卡鲁塞尔氧化沟